Doktorant w dziedzinie chemii obliczeniowej

DrukujDrukujPDFPDF

Laboratorium Technologii Nowych Materiałów Funkcjonalnych
poszukuje kandydata na stanowisko doktoranta
w dziedzinie chemii obliczeniowej
 
Projekt NCN OPUS
Hi-Ox: Podróż do rdzenia atomu - przełamywanie barier dostępnych stopni utlenienia atomów metali
Panel ST4
 
Przedmiotem badań będą teoretyczne rozważania nad możliwością osiągnięcia nietypowych bardzo wysokich formalnych stopni utlenienia (rozebranie atomów aż do elektronów rdzenia) w wybranych azotkach, tlenkach i fluorkach metali przejściowych i lantanowców.
 
Kwalifikacje kandydatów:
·  tytuł magistra w zakresie chemii, fizyki lub dziedzin pokrewnych (może być student ostatniego roku z wyznaczonym terminem obrony)
·  dobra znajomość j. angielskiego
·  umiejętność obsługi programów do obliczeń kwantowo-chemicznych oraz znajomość metod chemii obliczeniowej
·  znajomość systemu operacyjnego typu UNIX na poziomie co najmniej użytkownika
·  dobra umiejętność programowania w dowolnym języku,
·  wysoka motywacja, umiejętność analitycznego myślenia, praca w zespole
Zgłoszenie powinno zawierać:
·  życiorys (CV)
·  list motywacyjny
·  zaświadczenie o uzyskaniu tytułu magistra
·  jeden lub więcej listów polecających (wysłanych bezpośrednio na podany poniżej adres)
·  listę publikacji naukowych, stypendiów i nagród
·  listę konferencji, w których brał udział Kandydat wraz z tytułami i autorami wystąpień
Warunki zatrudnienia:
·  stypendium w wysokości 3000 PLN miesięcznie. Umowa 24 miesiące z możliwością przedłużenia.
Zgłoszenia należy przesyłać na adres:
Uniwersytet Warszawski, Centrum Nowych Technologii, ul. Banacha 2c, Pokój 5043, 02-097 Warszawa lub pocztą elektroniczną na adres: p.szarek@cent.uw.edu.pl (proszę wpisać “Hi-Ox aplikacja doktoranta” w tytule maila).
 
Termin składania dokumentów upływa z dniem 10 października 2017 r.
 
Termin rozstrzygnięcia konkursu nastąpi do dnia 30 października 2017 r.